由日本律师联合会、日本知识产权协会、美国专利商标局、联邦巡回法院律师协会(FCBA)等共同主办的“日美知识产权司法讨论会”于2011年10月26日至27日在日本东京召开。研讨会围绕着“日美两国法官讨论及疑问解答”、“特许厅的观点”、“美国联邦巡回上诉法院（CAFC）和日本知识产权高等法院在各国的贡献及未来展望”、“模拟法庭”四个主题进行。

包括CAFC的首席法官Randall R. Radar在内的六名CAFC的法官、包括日本知识产权高等法院所长中野哲弘在内的日本法官、 知识产权局官员以及IP律师、专利代理人深入探讨了日美两国的知识产权司法事务及案例。美国专利商标局局长David J. Kappos、日本特许厅厅长岩井良行也参加了此次研讨会，并作了精彩的演讲。此外，也有来自中国、韩国等国家的律师和代理人参会。研讨会的现场气氛十分热烈，与会者与法官的互动机会很多，讨论非常热烈。与会者普遍认为此次研讨会规模很大，举办的非常成功，对今后的实务操作非常有帮助，并期待有更多类似的研讨会。