据日媒报道，2015年8月起，日本专利厅和美国专利商标局将对日美两国提出的专利申请开展共同审批合作。日美当局将共享调查信息，互相参考判断结果，以大幅提高工作效率，加快审批过程。预计两国企业申请专利所需时间也将缩短。

目前，日本的专利审批需要10个月左右，今后将缩短至6个月左右。由于日美两国的审批将同时结束，企业在两国同时推出新产品将变得更加容易。

日媒称，日美两国专利局于本月21日就共同审批框架达成共识。据称，这将是日本特许厅首次与海外当局实行共同审批，在世界范围内也尚属首次。最初将以每年数百宗为上限，受理企业提出的同时审批申请，今后将逐步增加共同审批的受理数量。

据悉，如果能利用该框架，日本企业申请专利环境将明显得到改善。以往，在进行专利审批时，需要调查过去是否存在同样的发明，以及是否具有专利价值，之后由各国当局判断是否授予专利权。

此次日美将在专利审批方面共享信息，比如作为重要审查资料的庞大论文数据库和专利申请资料等相关信息，从而提高工作效率。审批结果由两国当局自主作出判断，但事前会讨论并综合各自重视的要点，减少看漏类似发明，作出错误判断的风险。（摘自 中国新闻网）